DHPS系列直流濺射等離子體實驗裝置 裝置采用同軸二極濺射結構，靶臺和靶距離可調節，濺射基片可進行控溫加熱； 濺射氣壓、濺射氣源流量可調節，可研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響 ；反應腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現象；工作氣體可調節更換， 并可多路氣體混合工作。可以完成光學薄膜材料的制備及其光學特性的測量、金 屬薄膜的制備等實驗。 主要實驗內容： ◆光學薄膜材料的制備及其光學特性的測量； ◆金屬薄膜的制備實驗； ◆理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的工藝方法。 主要技術特點： ◆濺射靶臺和濺射靶距離可調節，研究在不同距離時對薄膜濺射的影響； ◆濺射基片可進行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響； ◆濺射氣壓、濺射氣源流量可調節，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響 ◆反應腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現象； ◆供電電源：AC 220V，50 Hz。