聚對二甲苯涂層設(shè)備P120D聚對二甲苯 P120D。聚對二甲苯涂覆設(shè)備。聚對二甲苯是聚對二甲苯聚合物基團(tuán)的簡稱。聚合物由被不同物質(zhì)取代的對二甲苯組成。涂層的基礎(chǔ)是二聚體。這是由兩個相同的亞基，即所謂的單體組成的分子復(fù)合物。特性和優(yōu)點：聚對二甲苯涂層具有非常多的優(yōu)點。聚對二甲苯 …合規(guī)：即也適用于復(fù)雜的基材輪廓，例如鋒利的邊緣、鉆孔或盲孔。從層厚度約為 0.5 μm 時起就已經(jīng)無針孔 (“pinhole-free”)。化學(xué)不可溶并且耐抗諸多化學(xué)物質(zhì)。對濕氣和化學(xué)物質(zhì)具有非常好的阻隔特性。具有較高的介電擊穿強(qiáng)度。具有干潤滑特性（較低的 摩擦系數(shù)）。具有疏水性：H2O 的接觸角介于 92 ° 和 98 ° 之間。在可見波長范圍內(nèi)（取決于類型）的 90％ 到 96％ 之間是透明的。具有生物相容性：可以沉積 C 和 N 型聚對二甲苯，可以根據(jù) USP Class VI、ISO 10993 和 FDA 進(jìn)行認(rèn)證。沉積材料:Parylene N, C, D, F-VT4。乘積厚度范圍: 50 nm-20 mm。設(shè)備尺寸:寬: 約2700 mm 深: 約2200 mm 高: 約1600 mm。裂解管:4kW / 高 850 °C。真空沉積室:直徑: 500 mm 長: 610 mm 約: 120 L。轉(zhuǎn)筒: 直徑: 445 mm 長: 580 mm 約:90 L。冷阱:液氮或機(jī)械式冷阱。真空系統(tǒng):雙級旋片泵 或 干泵。抽速: 65m3/h 或 干泵1800m3/h。真空壓力: 1 x 10-3 mbar。控制: 基于 Windows 的全PC 控制系統(tǒng)。 電氣連接: 230 V/16 A/50-60 Hz。壓縮空氣: 6 bar 無油干燥。聚對二甲苯涂層設(shè)備P120D